护肤品、洗发水、染发剂、牙膏生产和各种清洗液生产用纯水

Purewater for Skin-care products, shampoo, hair   dyes, toothpaste production and a variety of cleaning fluid

电导率≤2μs/CM

Electric conductivity ≤2μs/CM

饮用纯净水标准（GB17324-98）

Purified drinking water standards（GB17324-98）

医用纯化水标准（GMP2010版）

Medical standards for purified water（GMP2010version）

超纯材料和超纯化学试剂

石英、硅材料生产、加工、提纯

电子半导体、集成电路板上用到的化工材料

Ultra-pure materials and ultra-pure chemical reagents

Quartz, silicon material production, processing, purification

Electronic semiconductors, integrated circuit boards used in chemical   materials

电阻率15 ~18.25 MΩ.CM

Resistivity 15 ~18.25 MΩ.CM

我国电子级水质技术指标GB11446-1-1997

Electronic-grade water quality technical indicators of Chinese standard GB11446-1-1997

美国半导体工业用纯水指标

The U.S. semiconductor industrial pure water indicators

普通化工材料的生产和加工过程所用的溶剂及清洗过程

Common chemical material production and dissolvent in the processing and rinsing  process

电导率≤10μs/CM

Electric conductivity≤10μs/CM

饮用纯净水标准（GB17324-98）

Purified drinking water standard (GB17324-98)

实验室和中试车间

Lab and pilot plant

电阻率15 ~18.25 MΩ.CM）

Resistivity 15 ~18.25 MΩ.CM

实验室高纯水标准 GB 6682-92

Lab high-water standards( GB 6682-92)

高纯墨水、传真打印机中的喷墨、纳米墨水

Purity ink, fax, printer inkjet, nano-ink

电阻率15 ~18.25 MΩ.CM）

Resistivity 15 ~18.25 MΩ.CM

我国电子级水质技术指标GB11446-1-1997

Electronic-grade water quality technical indicators of Chinese standard GB11446-1-1997

美国半导体工业用纯水指标

The U.S. semiconductor industrial pure water indicators

Main technical process   and standard of output water：

◆ 预处理+一级反渗透（电导率≤10μs/CM）

Pre-treatment+ one stage reverse osmosis system (electric conductivity≤10μs/CM）

◆ 预处理+二级反渗透（电导率≤2μs/CM）

Pre-treatment+ double stage   reverse osmosis system (electric conductivity≤2μs/CM）

◆ 预处理+反渗透+离子交换器（电阻率≥15MΩ.CM）

Pre-treatment+ stage reverse osmosis system+ion exchange (electric   conductivity≥15MΩ.CM）

◆ 预处理+一级反渗透+EDI（电阻率≥15MΩ.CM）

Pre-treatment+ stage reverse osmosis system+EDI (electric conductivity≥15MΩ.CM）

◆ 预处理+二级反渗透+EDI +抛光混床（电阻率≥18.25MΩ.CM）

Pre-treatment+ double stage reverse osmosis system+EDI +polishing mixed   bed (electric conductivity≥18.25MΩ.CM）

详细工艺需根据原水水质及产水要求情况进行设计

The detailed process shall be designed according to the raw water   quality and water production requirements